Revêtement par pulverisation plasma

• Haute densité
• Haute pureté
• Fonte de matériau à haute température 
• Basse et haute vélocité 
• Atmosphère contrôlé
• Aspiration à pression positive

Cible pulvérisation cathodique et rayons X

La technologie du revêtement par pulvérisation plasma peut être utilisée avec succès pour rebâtir des composantes critiques qui demandent un revêtement de haute qualité, comme la pulvérisation cathodique et les rayons X.

Les cibles de pulvérisation cathodique et les rayons X ont longtemps été fabriqués à l’aide de différentes techniques de poudres métalliques pour la formation des voyants faits de matériaux de haute pureté qui sont ensuite montés sur le voyant pour la gestion appropriée de la chaleur sous des conditions finales d’opération. La technique est relativement fastidieuse et requière un grand nombre d’étapes pour la préparation et la densification de la poudre, suivie du compactage de la poudre à la température de la pièce et du frittage subséquent jusqu’au matériau haute densité requis. Dans certains cas, le frittage n’est pas suffisant afin d’atteindre la densité requise du produit final. Dans de tels cas, il est nécessaire d’avoir recours à des techniques beaucoup plus complexes et dispendieuses de compaction isostatique chaude (HIP).

Le technique unique de plasma induit en attente de brevet de Tekna est basé sur la fonte en vol par plasma de matériau de poudre à être utilisés pour la production de cibles de pulvérisation cathodique dans une torche plasma reliée par couplage induit suivi par la déposition des gouttelettes du matériau fondu à haute température afin d’atteindre le densité apparente et épaisseur requise par l’industrie. La technique peut être appliquée à une vaste gamme de matériaux de pulvérisation cathodiques et rayons X y compris, les métaux comme le Ti, Ni, Al, Cu, Ag, Palladium, et métaux réfractaires comme le tungstène, le molybdène de tantale, les alliages, comme le Fe/Co, Ni/Co et les intermétalliques comme le MoSi2.
 

 Applications de piles à combustible

SOFC (pile à combustible d’oxyde solide) possède un grand potentiel pour les générations d’énergie économiques, efficaces et propres. La production d’électrodes SOFC (cathode et anode), qui requière une structure de revêtement hautement poreuse, a été démontrée en utilisant une technique de pulvérisation au plasma induit (IPS). Comparée à la technologie traditionnelle multi-étapes de sérigraphie, IPS a l’avantage d’utiliser une source de chaleur propre, contrôlable et de large volume qui possède une trempe rapide et une atmosphère contrôlée. La matière utilisée peut varier de phases solides à liquides à gazeuses.

Domaine aérospatial

La déposition de haute précision par la technologie de la pulvérisation par plasma induit peut être utilisée afin d’atteindre un revêtement de haute densité et des pièces de haute précision pour des composantes de haute performance. La fabrication en utilisant des techniques traditionnelles peut être très couteuse due aux déchets d’usinage qui sont générés par des matériaux exotiques ou en introduisant des contaminants qui peuvent être réduits considérablement en utilisant la technologie de revêtement par pulvérisation par plasma induit.

Domaine biomédical

Les biomatériaux doivent être compatibles avec le corps et sa pureté est l’une des principales préoccupations dans ce domaine. Le revêtement par pulvérisation par plasma induit de matériaux biocompatibles sur des parties d’articulations de la hanche peut être la meilleure solution afin de résoudre la problématique de la pureté due à la nature du procédé libre de contaminants.

Fibres optiques

La technologie du plasma induit est utilisée pour le glaçage et le polissage des surfaces de verre. Le jet plasma à haute température peut fondre rapidement la surface du verre et en affiner la surface.
 La déposition de vapeur axiale offre une technique de revêtement d’ébauches plus économique que les technologies actuelles basées sur les gaines de tube synthétiques