感应等离子体系统
根据设备配置的不同，我公司的实验室研究开发型或工业生产型感应等离子体系统可以应用于以下领域：
研究开发型设备 (TDU)
泰克纳的感应等离子体研究开发型设备适合于粉末处理，纳米粉末制备，喷涂，以及近净成形沉积等领域的研究与开发。这些研发型装置可配置不同的设备，并可以单独或合并使用。模块化的设计可以使得反应器容易从等离子体装置上拆除，便于清洁和维护。这增加了使用专用设备的灵活性，避免因使用同一反应器而造成的不同粉末的交叉污染，并保证粉末的纯度。每套装置都可以设计成等离子体单输出或双输出端，提供在不同应用之间的方便切换。
该设备可以用来研究等离子体的各种操作参数，并跟据需要进行调整，以制备不同的材料。这些研发设备都配备操作界面，可以方便的监测和储存操作参数。
泰克纳提供了以下两种研究开发型设备系统：
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TDU-30 |
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60千瓦感应等离子体系统，全自动化操作，容易控制工艺条件，使用高度灵活， 适合于工业化实验室和中试生产。 |
工业生产型设备 (TIU)
泰克纳也提供功率为60千瓦，100千瓦，或200千瓦的工业生产型设备。每套设备都是跟据客户的需求，为不同的工艺特别设计的，并保证24小时的全自动连续运行。
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系统配置
纳米粉末制备反应器
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感应等离子体可以从不同状态的原材料，如固体，液体，或气体来制备纳米材料。在感应等离子体的高温和高热传热的环境下，几乎任何材料都可以汽化。在泰克纳独特设计的反应器激冷区内，激冷气体的注入位置和流量可以得到控制。 因此，生成的纳米粉末的粒径可控制在20-100纳米的范围内。（更多信息请链接到网页-技术/纳米粉末）。 粉末在高温的感应等离子体体炬内被汽化，然后在反应器的激冷区被迅速固化，生成高质量的纳米粉末。 制备纳米粉末的反应器是双层水冷，不锈钢结构，并配备气锁阀，允许在不中断系统操作的同时，连续收集粉末。反应器的内部表面光洁度高，便于清洗，降低了各种可能的污染。
位于反应器和过滤器之间的热交换器可以冷却反应气体。纳米粉末在通过纳米粉末过滤系统时被从气流中分离和收集。粉末过滤系统可以配备手套箱，以避面有些易氧化的纳米粉末在收集过程中和氧气接触。
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粉末球化反应器
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由于感应等离子技术具有大体积的高温区，轴向进料和原材料在高温区的长滞留时间等特性， 因次该技术特别适用于粉末处理工艺。在等离子体中熔化的单个原料粒子可以生成球形颗粒，并增加密度，提高纯度，合成金属合金。（更多信息链接到网页-技术/球型粉末） 反应器是双层水冷，不锈钢结构，并和一个配有气锁阀的粉末收集器相连。反应器的内表面镜面抛光。 位于反应器和过滤器之间的热交换器可以冷却反应气体。球型粉末在通过粉末过滤系统时被从气流中高效分离。自动化回吹系统可以连续清洗过滤器。球型粉末可以在粉末收集器的底部罐收集。
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喷涂反应器
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泰克纳等离子体喷涂系统的优化设计，其特点是在可控的气氛下实现超薄涂层或近净成形沉积。（工艺的更多信息请链接到网页-技术/涂层）
真空热喷涂室是使用不锈钢材料，内表面镜面抛光，采用双层壁水冷的结构。该喷涂室适用于非腐蚀性气体。喷涂室是水平安装的，室体上有两个石英观察窗，并配有一个可打开的前门，一个固定的后门。射频等离子体炬安装在喷涂室顶部，气体的排气口在底部。
该喷涂室配有一个多功能的3轴全自动机械手，可以在正压或负压的环境下移动和旋转衬底：
- 横向变速平移
- 围绕水平轴变速旋转
- 垂直升降以调节衬底的位置
设备特性：
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